第991章 光刻机

重启05 作家rQA6Dw 1110 字 3天前

王骁是上午得到消息的,当天下午王骁就回到了滨城,低调的回到了滨城,然后低调的来到了实验室所在!

这地方现在是保密单位,普通人根本靠近不了!为的就是让这个项目保密不被发现。

尤其是在相关的扶持基金进场后,保密更严格了。要不是王骁是这个项目烦真正发起者,和绝大部分资金的供应着,王骁想要很容易的进入是很难得。

光刻机是半导体工业中的关键设备,主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上,并使用紫外线照射硅片表面,使其形成微小的结构。

光刻机的核心部件包括镜头、光源、曝光台、测量台等。镜头是光刻机最核心的部分,采用的镜头可以达到高2米直径1米,甚至更大。

光源是光刻机核心之一,光刻机的工艺能力首先取决于其光源的波长。曝光台和测量台是承载硅片的工作台。

光刻机的工作原理虽然类似于照相机照相,但光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。

光学系统:包括曝光光源、透镜、反射镜等。用来将掩模上的图形投影到硅片上。

机械系统:包括平台、运动控制系统*、自动对位系统等,用于控制硅片的位置和运动轨迹。控制系统:包括计算机、控制软件*等,用于控制整个光刻机的运行和曝光过程。

二、光刻机的工作原理

光刻机的工作原理主要包括曝光和显影两个过程

曝光过程(1)准备工作:将硅片放置在平台上,并通过自动

对位系统对硅片进行定位和对位。

(2)加热处理:将硅片加热至一定温度,以使其表

面更容易吸收光线。

(3)涂覆光刻胶*:将光刻胶涂覆在硅片表面,以